|
|
| 首页 >> 专题资料 >> 电气元件 |
| 加工晶片专题资料光盘 |
| 时间:2009-9-27,点击:0 |
光盘编号:857608 《加工晶片专题资料光盘》包括专利技术全文资料166份。整套光盘收费260元,全国范围内可免费货到付款。请选择订购方式: (1)在线订购>>点击此处 客服qq: 78865105 (2) 电话订购 0755-33090789-1(分机) 13322986951/13322986751(周一至周六18:00以后,周日及法定节假日全天) (3) 传真订购 0755-33090989-9(分机)
技术编号 技术名称 (857608-0166) 一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置 (857608-0165) 激光加工方法和激光加工装置 (857608-0164) 加工对象物切割方法 (857608-0163) 激光加工装置 (857608-0162) 激光加工装置 (857608-0161) 晶片的磨削加工装置 (857608-0160) 激光加工方法及激光加工装置 (857608-0159) 用于晶片背面加工尤其减薄的方法、为此使用的晶片-载体布置和用于制造这种晶片-载体布置的方法 (857608-0158) 一种用于gan外延的衬底的加工方法 (857608-0157) 基板的厚度测量方法及基板的加工装置 (857608-0156) 光学加工用冷却液 (857608-0155) 半导体铜加工用水相清洗组合物 (857608-0154) 一种低粗糙度硅抛光片的加工方法 (857608-0153) 晶片的加工方法 (857608-0152) 用于加工具有激光刻蚀的沟槽触点的基件,尤其是太阳能电池的方法和装置 (857608-0151) 线放电加工方法、半导体晶片制造方法以及太阳能电池用单元制造方法 (857608-0150) 晶片的加工方法 (857608-0149) 抛光布表面网纹流道加工方法 (857608-0148) 用来混合加工材料的方法和装置 (857608-0147) 制造微加工电容式超声传感器的表面微机械工艺 (857608-0146) 簇状半导体加工设备 (857608-0145) 晶片的加工方法 (857608-0144) 激光加工用粘接片 (857608-0143) 半导体晶片研磨用组合物、其制造方法和研磨加工方法 (857608-0142) 封装晶片加工装置及其制造方法 (857608-0141) 激光加工方法 (857608-0140) 激光加工方法和芯片 (857608-0139) 一种用于半导体晶片加工的高效水剂型倒角液 (857608-0138) 晶片的加工结果管理方法 (857608-0137) 用于加工半导体晶片或半导体基材的压敏粘着片 (857608-0136) 错列垂直梳状驱动器加工方法 (857608-0135) 适应性等离子源及使用该等离子源加工半导体晶片的方法 (857608-0134) 半导体器件加工装置以及控制半导体器件加工工艺的方法 (857608-0133) 工件的激光加工 (857608-0132) 半导体器件制造方法及晶片加工带 (857608-0131) 加工工具中晶片的处理系统 (857608-0130) 用于加工基于悬臂的mems cmos存储器储存装置的方法 (857608-0129) 检测加工图像诱发缺陷的方法 (857608-0128) 半导体晶片的加工装置 (857608-0127) 激光加工设备和激光加工方法 (857608-0126) 磷化镓晶片纳米级超光滑加工工艺 (857608-0125) 单工件加工腔 (857608-0124) 工件加工系统 (857608-0123) 用于对处理物体进行加工的系统 (857608-0122) 晶片加工用带 (857608-0121) 半导体晶片处理带卷装体、使用其的半导体晶片处理带贴付装置及半导体晶片加工处理装置 (857608-0120) 机加工半导体晶片的方法、载具和由此制造的半导体晶片 (857608-0119) 晶片加工带及其制造方法 (857608-0118) 半导体晶片及其加工方法 (857608-0117) 板状体切断方法及激光加工装置 (857608-0116) 一种半导体晶片加工的传输平台 (857608-0115) 晶片的激光加工方法和激光加工装置 (857608-0114) 具有耐腐蚀层的陶瓷制品、结合了该陶瓷制品的半导体加工设备以及制造陶瓷制品的方法 (857608-0113) 蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺 (857608-0112) 晶片的激光加工方法 (857608-0111) 用于激光割片的保护膜剂和使用保护膜剂的晶片加工方法 (857608-0110) 加工硅晶片的方法 (857608-0109) 一种可以改善半导体晶片几何参数的晶片加工方法 (857608-0108) 硅晶片激光加工方法和激光束加工装置 (857608-0107) 半导体晶片加工用基膜 (857608-0106) 具有改良加工特性的晶片支撑物 (857608-0105) 用于基片加工的设备 (857608-0104) 以高定位精确度加工一个物体的装置 (857608-0103) 制造单晶半导体晶片的方法及实施该方法的激光加工设备 (857608-0102) 用于铜化学机械平整化加工的组合物及方法 (857608-0101) 激光加工方法 (857608-0100) 加工装置 (857608-0099) 晶片加工方法 (857608-0098) 加工装置 (857608-0097) 半导体基板及半导体基板的薄型加工方法 (857608-0096) 等离子加工设备 (857608-0095) 加工硅晶片的方法 (857608-0094) 使用终点系统以配合机床中个别加工站 (857608-0093) 平面金属电加工 资(857608-0092) 缘经过研磨的氮化物半导体基片及其边缘加工方法 料(857608-0091) 用于判定加工层膜均匀性的方法及装置 来(857608-0090) 能够映射晶片的晶片加工设备 源(857608-0089) 抛光状态监视方法、抛光状态监视装置、抛光设备、加工晶片、半导体器件制造方法和半导体器件 :(857608-0088) 加工半导体晶片的方法 深(857608-0087) 用于加工半导体晶片的集成系统 圳(857608-0086) 包含背面研磨的半导体晶片加工方法 市(857608-0085) 表面贴装晶体谐振器陶瓷基座及其加工工艺 万(857608-0084) 大面积平面晶片双面精密加工工艺 宁(857608-0083) 钒酸钇单晶片的批量加工工艺 达(857608-0082) 双光子引发剂及其合成方法与微加工技术 信(857608-0081) 半导体晶片的保护结构、半导体晶片的保护方法以及所用的层压保护片和半导体晶片的加工方法 息(857608-0080) 晶片的加工方法 咨(857608-0079) 利用多面反射镜的激光加工设备 询(857608-0078) 机加工设备和方法 有(857608-0077) 电解加工装置和方法 限(857608-0076) 抛光布表面流道加工方法 公(857608-0075) 加工衬底,特别是半导体晶片 司(857608-0074) 晶片加工方法 (857608-0073) 晶片加工方法 (857608-0072) 晶片定位方法和装置,晶片加工系统及晶片定位装置的晶片座旋转轴定位方法 (857608-0071) 加工装置 (857608-0070) 半导体晶片的加工方法 (857608-0069) 晶片的加工方法 (857608-0068) 晶片加工方法 (857608-0067) 半导体晶片用抛光垫的加工方法以及半导体晶片用抛光垫 (857608-0066) 含有内压控制系统的常压晶片加工反应器及方法 (857608-0065) 具有微米级热电臂的微型热电元件的微加工方法 (857608-0064) 晶片加工方法 (857608-0063) 消除硅晶片加工后表面残留应力的热处理装置 (857608-0062) 半导体晶片加工机台的基座结构 (857608-0061) 一种半导体晶片加工机台的基座 (857608-0060) 激光加工方法 (857608-0059) 激光加工方法及激光加工装置 (857608-0058) 晶片加工方法 (857608-0057) 微机械加工的麦克风和多传感器及其制造方法 (857608-0056) 晶片测量装置及激光加工机 (857608-0055) 一种可以节约时间的匀胶显影加工工艺及设备的改进结构 (857608-0054) 激光加工方法和装置,以及半导体芯片及其制造方法 (857608-0053) 晶片加工方法 (857608-0052) 砷化镓晶片的激光加工方法 (857608-0051) 晶片的加工方法 (857608-0050) 半导体晶片和 或基板加工用粘合片 (857608-0049) 用于在激光标刻系统中对准晶片加工系统的系统和方法 (857608-0048) 晶片的磨削加工方法 (857608-0047) 激光加工用粘合片 (857608-0046) 激光加工方法 (857608-0045) 激光加工方法、半导体材料基板的切断方法 (857608-0044) 传输和加工衬底的装置及方法 (857608-0043) 等离子加工装置和方法 (857608-0042) 激光加工装置 (857608-0041) 加工装置和吸盘工作台 (857608-0040) 通孔加工方法 (857608-0039) 加工晶片的设备 (857608-0038) 利用硒化晶片接合的用于原子分辨率存储移动器的加工方法 (857608-0037) 利用硒化晶片接合的用于原子分辨率存储移动器的加工方法 (857608-0036) 用于半导体晶片加工的压敏粘合片 (857608-0035) 使用化学机械抛光精加工用于接合的晶片的装置和方法 (857608-0034) 半导体晶片加工系统中的高压室的参数监视仪 (857608-0033) 加工半导体晶片用的压力喷射机及方法 (857608-0032) 修整半导体制造用的结构晶片的加工液体和方法 (857608-0031) ic制造业中的pecvd-ti和cvd-ti薄膜的单一腔室加工方法 (857608-0030) 低污染、高密度等离子蚀刻腔体及其加工方法 (857608-0029) 用于等离子加工的弹性接合部件及其制造方法和其应用 (857608-0028) 使用不同温度的液体通过湿法加工制造电子元件的方法 (857608-0027) 用于加工半导体衬底的晶片载体与半导体装置 (857608-0026) 集成硅微电阻式加速度传感器及其制造加工方法 (857608-0025) 半导体工厂自动化系统及用于重新设定加工方法的方法 (857608-0024) 用于加工晶片的设备 (857608-0023) 用于实时测定加工过程中工件的原位发射率的系统和方法 (857608-0022) 晶片加工装置 (857608-0021) 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法 (857608-0020) 用于半导体晶片加工的压敏粘合片 (857608-0019) 图形加工对位法 (857608-0018) 具保护层的晶片透孔加工法 (857608-0017) 具透明遮罩式晶片透孔加工法 (857608-0016) 用可原位探测晶片背面颗粒的导轨加工晶片的方法和设备 (857608-0015) 用于加工半导体的化学机械研磨组合物 (857608-0014) 基片的加工设备、支撑设备、加工及制造方法 (857608-0013) 等离子加工室的温控方法及设备 (857608-0012) 半导体晶片的加工方法和ic卡的制造方法以及载体 (857608-0011) 半导体晶片加工用粘合剂和胶带 (857608-0010) 晶片和基底的加工方法和装置及传送该晶片和基底的装置 (857608-0009) 一种用半导体技术加工制作表盘的方法 (857608-0008) 用新型精抛光方法加工半导体晶片的方法及其设备 (857608-0007) 用双面抛光加工半导体晶片的方法 (857608-0006) 用来混合加工材料的方法和装置 (857608-0005) 决定加工参数、决定加工参数和设计规则至少一方的方法 (857608-0004) 半导体晶片表面保护粘结膜及使用其的半导体晶片加工方法 (857608-0003) 微加工的流体设备及其制造方法 (857608-0002) 晶片机械加工粘结带及其制造和使用方法 (857608-0001) 消除机加工应变的设备
|
|
|
|
| 【打印】【关闭】 |
|
|