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| 等离子体反应器专题资料光盘 |
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光盘编号：845532 《等离子体反应器专题资料光盘》包括专利技术全文资料165份。整套光盘收费260元，全国范围内可免费货到付款。请选择订购方式：
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技术编号 技术名称
(845532-0165) 一种大气压微波等离子体发生装置
(845532-0164) 一种用于等离子体反应室的升降销
(845532-0163) 等离子体自光极化反应装置
(845532-0162) 锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器
(845532-0161) 一种双极电晕放电等离子体脱硫脱硝装置
(845532-0160) 远距等离子体反应器的制程气体旁通装置
(845532-0159) 交流等离子体裂解废弃物装置
(845532-0158) 一种产生正极性流光放电等离子体的电源装置
(845532-0157) 双层介质阻挡放电等离子体反应器
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(845532-0155) 等离子体空气灭菌净化器
(845532-0154) 齿状等离子体反应器
(845532-0153) 丝状等离子体反应器
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(845532-0151) 一种放电等离子体修复土壤的方法及装置
(845532-0150) 用于水处理的液体电极沿面放电等离子体反应器
(845532-0149) 脉冲电晕等离子体反应及吸附催化脱硫脱硝方法和装置
(845532-0148) 包括对低介电常数材料进行非原位背侧聚合物去除的等离子体电介质蚀刻处理
(845532-0147) 容性耦合等离子体反应器
(845532-0146) 饮用水安全消毒的脉冲等离子体催化装置及方法
(845532-0145) 一种产生大气压微波辉光等离子体的装置
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(845532-0143) 中央空调型等离子体空气消毒净化器
(845532-0142) 等离子体反应器室中的具有晶片边缘气体注射的阴极衬套
(845532-0141) 等离子体溅镀中的刻蚀及侧壁选择性
(845532-0140) 等离子体反应的装置以及使用该装置还原废气中的颗粒物质的系统
(845532-0139) 端点检测装置和方法以及具有该装置的等离子体反应器
(845532-0138) 用电旁路元件减小电歪斜的等离子体反应器
(845532-0137) 大气压微波等离子体发生装置
(845532-0136) 新型脉冲光催化-后金属氧化物催化等离子体反应器
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(845532-0134) 利用低温等离子体脱除固定源尾气中氮氧化物的净化方法
(845532-0133) 用于环形源反应器的具有高均匀腔室干燥工艺的等离子体浸没离子注入
(845532-0132) 等离子体反应器
(845532-0131) 消除感应耦合等离子体反应器中m形状蚀刻率分布的方法
(845532-0130) 制造等离子体反应器部件的方法
(845532-0129) 空心体内面的等离子体处理的方法和设备
(845532-0128) 通过反应室等离子体反应器系统利用蒸发-冷凝过程制备纳米颗粒的方法
(845532-0127) icp等离子体反应器中控制硅槽和二氧化硅厚度的方法
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(845532-0125) 具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器
(845532-0124) 一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置
(845532-0123) 具有静电卡盘电压反馈控制的双偏置频率等离子体反应器
(845532-0122) 感应耦合等离子体反应器
(845532-0121) 用于调整一组等离子体处理步骤的方法和装置
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(845532-0116) 具有独立的电容及环形等离子体源的等离子体反应器设备
(845532-0115) 适于大面积衬底的电容性耦合rf等离子体反应器的阻抗匹配
(845532-0114) 混合等离子体反应器
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(845532-0112) 利用低温等离子体处理工业废水的方法及处理装置
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(845532-0110) 大气压冷等离子体低温合成锐钛矿相纳米二氧化钛粉体的方法
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(845532-0108) 氢等离子体还原法制备金属磷化物加氢精制催化剂的方法
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(845532-0106) 一种等离子体氧化脱除室内空气中甲醛的方法
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(845532-0104) 等离子体反应器中离子密度、能量分布及解离的独立控制
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：(845532-0087) 多级等离子体发生器危险废物处理系统
深(845532-0086) 低温等离子体氯化高分子聚合物的方法
圳(845532-0085) 利用单个发生器和开关元件而以空间上不同的等离子体二级元件驱动空间上独立的谐振结构
市(845532-0084) 具有旋转螺旋状电极的大气压辉光放电等离子体反应器
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(845532-0064) 用于溅射和再溅射的自离子化及电感耦合等离子体
(845532-0063) 流光放电等离子体氧化亚硫酸盐
(845532-0062) 用于尾气净化的整体式低温等离子体催化反应器
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(845532-0060) 金属氧化物纳米粒子的等离子体合成
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(845532-0056) 一种等离子体增强甲烷选择催化还原氮氧化物的方法
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(845532-0037) 等离子体自光极化反应装置及其方法
(845532-0036) 一种用于汽车尾气治理的电晕放电等离子体反应器
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(845532-0033) 一种采用低温等离子体技术处理废水的方法及其装置
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(845532-0031) 具有可调电极面积比的受约束等离子体
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(845532-0029) 用于等离子体反应器的具有智能升降销机构的静电卡盘
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(845532-0019) 高温等离子体烟气脱硫方法
(845532-0018) 溅射铜用自离化的等离子体
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(845532-0015) 等离子体腐蚀反应器和方法
(845532-0014) 等离子体蚀刻系统
(845532-0013) 等离子体增强的化学处理反应器和方法
(845532-0012) 用于半导体晶片干燥蚀刻的等离子体加工装置
(845532-0011) 等离子体化学气相合成法制备碳化硅陶瓷粉体的工艺
(845532-0010) 等离子体化学气相合成法制备碳化钛陶瓷粉体的工艺
(845532-0009) 等离子体化学气相法制备高α相氮化硅粉体的工艺
(845532-0008) 一种电脉冲微型等离子体水处理方法和设备
(845532-0007) 等离子体化学气相合成法制备碳氮化钛陶瓷粉体的工艺
(845532-0006) 多尖端的多个圆盘旋转电极的等离子体放电反应器
(845532-0005) 感应耦合式等离子体装置
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(845532-0003) 用等离子体热解气化生物质制取合成气的方法
(845532-0002) 等离子体反应器电极的制造方法及这种电极
(845532-0001) 用于除去石油储罐中淤浆所含烃类和 或用于处理含烃废料的等离子体方法以及适宜装
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